Équipement atomique de dépôt de couche de ZEIT

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Équipement atomique de dépôt de couche de ZEIT

ALD

March 16, 2023

Category Connection: Équipement de dépôt de couche atomique

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Le dépôt atomique de couche de ZEIT (ALD) est une méthode de déposer les substances sur la surface du substrat sous forme de seule couche atomique de film par couche. Le dépôt atomique de couche est semblable au dépôt chimique commun, mais en cours de dépôt atomique de couche, la réaction chimique d'une nouvelle couche de film atomique est directement associée à la couche précédente, de sorte que seulement une couche d'atomes soit déposée dans chaque réaction par cette méthode.

Le dépôt atomique de couche est très utilisé dans les dispositifs de systèmes Micro-électromécaniques, les affichages électro-luminescents, les matériaux de stockage, l'accouplement inductif, la batterie solaire de silicium cristallin, la batterie en couche mince de perovskite, l'emballage 3D, l'application lumineuse, les capteurs, le traitement médical, la couche de protection contre la corrosion, la batterie de carburant, la batterie au lithium, les têtes de lecture/écriture de disque dur, le revêtement décoratif, le revêtement d'anti-décoloration, les films optiques, etc. a adapté la production aux besoins du client disponible.

Téléphone : 86-28-62156220-810
Téléphone : +86 137 3067 2621/+86 180 0059 9572
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Email : hua.du@zeit-group.com
Web : www.optics-equipment.com

Tags:

#Dépôt de couche atomique de nanostructure #machine de filtration ald #systèmes micro électromécaniques ALD

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