Le magnétron de ZEIT pulvérisant est un genre de dépôt en phase vapeur physique (PVD). Il entreprend la démarche d'électrons dans des chemins en spirale près de la surface de cible par l'interaction entre les champs magnétiques et électriques, de ce fait augmentant la probabilité des électrons frappant le gaz d'argon pour produire des ions. Les ions produits alors frappent la surface de cible sous l'action du champ électrique et pulvérisent les matériaux de cible à la couche mince de deposite sur la surface de substrat. La méthode générale de pulvérisation peut être employée pour la préparation de divers métaux, semi-conducteurs, matériaux ferromagnétiques, aussi bien qu'oxydes isolés, céramique et d'autres substances. L'équipement utilise le système de contrôle de l'écran tactile HMI de PLC+, qui peut entrer des paramètres par l'interface de processus programmable, avec les fonctions telles que la pulvérisation monocible, la pulvérisation séquentielle multicible et la Co-pulvérisation.

Comme technologie de revêtement non-thermique dans le domaine de la microélectronique, le dépôt de pulvérisation de magnétron est très utilisé dans le semi-conducteur, les affichages, l'enregistrement magnétique, l'enregistrement optique, la batterie en couche mince de perovskite, le traitement médical, le revêtement décoratif, le revêtement d'Anti-décoloration, les films optiques, le film opaque, le film résistif, le film, à bande perforée magnétique supraconducteurs, etc. a adapté la production aux besoins du client disponible.


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