Dépôt de couche atomique dans l'industrie de l'emballage électronique organique
Applications
Applications | But spécifique |
Emballage électronique bio
|
Emballage de diode électroluminescente organique (OLED), etc. |
Principe de fonctionnement
L'avantage de la technologie de dépôt de couche atomique est que, parce que la réaction de surface de la technologie ALD est
auto-limitation, des matériaux de l'épaisseur précise souhaitée peuvent être fabriqués en répétant constamment cette auto-limitation.
Cette technologie offre une bonne couverture des marches et une grande uniformité d'épaisseur.La croissance continue rend nano
matériaux de film sans trou d'épingle et à haute densité.
Fonctionnalités
Modèle | ALD-OEP-X—X |
Système de film de revêtement | AL2O3,TiO2,ZnO, etc. |
Plage de température de revêtement | Température normale à 500℃ (personnalisable) |
Taille de la chambre à vide de revêtement |
Diamètre intérieur : 1200 mm, hauteur : 500 mm (personnalisable) |
Structure de la chambre à vide | Selon les exigences du client |
Vide de fond | <5×10-septmbar |
Épaisseur du revêtement | ≥0.15nm |
Précision du contrôle d'épaisseur | ±0.1nm |
Taille de revêtement | 200×200mm² / 400×400mm² / 1200×1200 mm², etc. |
Uniformité de l'épaisseur du film | ≤±0,5 % |
Gaz précurseur et vecteur |
Triméthylaluminium, tétrachlorure de titane, diéthyl zinc, eau pure, azote, etc... |
Remarque : production personnalisée disponible. |
Échantillons de revêtement
Étapes du processus
→ Placer le substrat à revêtir dans la chambre à vide ;
→ Passez l'aspirateur dans la chambre à vide à haute et basse température et faites tourner le substrat de manière synchrone ;
→ Commencer le revêtement : le substrat est mis en contact avec le précurseur en séquence et sans réaction simultanée ;
→ Purgez-le avec de l'azote gazeux de haute pureté après chaque réaction ;
→ Arrêtez de faire tourner le substrat une fois que l'épaisseur du film est conforme à la norme et que l'opération de purge et de refroidissement est terminée.
terminé, puis retirez le substrat une fois que les conditions de rupture du vide sont remplies.
Nos avantages
Nous sommes fabricant.
Processus mature.
Réponse dans les 24 heures ouvrables.
Notre certification ISO
Certaines parties de nos brevets
Parties de nos récompenses et qualifications de R&D