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Substrat de photomasque de quartz de 350 × 300 mm pour la fabrication de puces de circuits intégrés
Meulage Polissage Chromage Substrat de photomasque à quartz 5280 800 mm × 520 mm
Équipement de système de mesure de biréfringence VIS 520nm 590nm 650nm
Rayures dépoussière la résolution 1.8μM d'équipement de détection de surface de semi-conducteur
Équipement d'essai optique 40x de systèmes de détection de surface de semi-conducteur
Temps réel transparent d'équipement de détection de système de mesure de biréfringence d'effort de résine
Équipement de détection de défaut de surface de substrat en verre 1.8um
Micro Electro Mechanical Systems 5009 Substrat de photomasque à quartz 5 × 5 × 0,09 pouces
OIN optique d'équipement de revêtement de dépôt de couche atomique de TiO2 Al2O3 ALD
TiO2 Al2O3 Revêtement optique Équipement de dépôt ALD ISO
Traitement de surface sphérique de miroir parabolique d'éléments optiques de film multicouche diélectrique
6 × 6 × 0,12 pouces MEMS Chrome Photomask Substrat Photoresist Coating
Solutions de chaîne de production automatisées par industrie pétrochimique de l'énergie nouvelle pour alimenter le système de masquage
Solutions de ligne de production automatisée ZEIT pour le nettoyage du système de recyclage
Coucheuse de rotation d'équipement non standard de ZEIT pour l'industrie de traitement optique
Machine de polissage optique d'équipement non standard d'industrie automobile pétrochimique

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