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Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering Deposition System For Medical Treatment

Système de dépôt de pulvérisation de magnétron d'Al2O3 TiO2 pour le traitement médical

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    Dépôt de pulvérisation de magnétron de traitement médical

    ,

    dépôt de pulvérisation de magnétron Al2O3 TiO2

    ,

    système de pulvérisation de magnétron de traitement médical

  • Lester
    Personnalisable
  • Taille
    Personnalisable
  • Personnalisable
    Disponible
  • Période de garantie
    1 an ou cas par cas
  • Conditions d'expédition
    Par Mer / Air / Transport Multimodal
  • Lieu d'origine
    Chengdu, République populaire de Chine
  • Nom de marque
    ZEIT
  • Certification
    Case by case
  • Numéro de modèle
    MSC-MT-X—X
  • Quantité de commande min
    1 jeu
  • Prix
    Case by case
  • Détails d'emballage
    caisse en bois
  • Délai de livraison
    Cas par cas
  • Conditions de paiement
    T/T
  • Capacité d'approvisionnement
    Cas par cas

Système de dépôt de pulvérisation de magnétron d'Al2O3 TiO2 pour le traitement médical

Dépôt par pulvérisation magnétron dans l'industrie du traitement médical
 
 
Applications    

     Applications     But spécifique     type de materiau
    Traitement médical     Matériaux biocompatibles      Al2O3, TiO2

 
Principe de fonctionnement
Le principe de base de la pulvérisation magnétron est que les électrons entrent en collision avec des atomes d'argon en train de voler vers

lasubstrat sous l'action du champ électrique, les ions argon produits bombardent la surface cible.Après l'énergie

échanger,les atomes sur la surface cible s'échappent du réseau d'origineet sont transférés sur le substrat

surface pour former des films.
 
Fonctionnalités 

  Modèle   MSC-MT-X—X
 Type de revêtement   Divers films diélectriques tels que film métallique, oxyde métallique et AIN
 Plage de température de revêtement   Température normale à 500℃
 Enduction sous videchambre size  700mm * 750mm * 700mm (personnalisable)
  Vide de fond   < 5×10-septmbar
 Épaisseur du revêtement   ≥ 10nm
  Précision du contrôle d'épaisseur  ≤ ±3%
 Taille maximale du revêtement   ≥ 100mm (personnalisable)
  Uniformité de l'épaisseur du film   ≤ ±0,5 %
  Support de substrat  Avec mécanisme de rotation planétaire
  Matériel cible   4 × 4 pouces (compatible avec 4 pouces et moins)
  Source de courant  Les alimentations telles que DC, impulsion, RF, IF et polarisation sont facultatives
  Gaz de procédé   Ar, N2, O2
  Remarque : production personnalisée disponible.

                                                                                                                
Échantillon de revêtement

Système de dépôt de pulvérisation de magnétron d'Al2O3 TiO2 pour le traitement médical 0

 

Étapes du processus 
→ Placer le substrat à revêtir dans la chambre à vide ;
→ Aspirer grossièrement ;
→ Allumez la pompe moléculaire, aspirez à vitesse maximale, puis allumez la révolution et la rotation ;
→ Chauffer la chambre à vide jusqu'à ce que la température atteigne la cible ;
→ Mettre en œuvre le contrôle de température constante ;
→ Nettoyer les éléments ;
→ Tourner et revenir à l'origine ;
→ Film de revêtement selon les exigences du processus ;
→ Baisser la température et arrêter le groupe pompe après revêtement ;
→ Arrêtez de travailler lorsque le fonctionnement automatique est terminé ;

 
Nos avantages
Nous sommes fabricant.
Processus mature.
Réponse dans les 24 heures ouvrables.

 
Notre certification ISO
Système de dépôt de pulvérisation de magnétron d'Al2O3 TiO2 pour le traitement médical 1
 

Certaines parties de nos brevets
Système de dépôt de pulvérisation de magnétron d'Al2O3 TiO2 pour le traitement médical 2Système de dépôt de pulvérisation de magnétron d'Al2O3 TiO2 pour le traitement médical 3
 

Parties de nos récompenses et qualifications de R&D
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