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Superhard Film Magnetron Sputtering Deposition System In Functional Film Field

Système de dépôt de pulvérisation cathodique de magnétron de film extra-dur dans le domaine fonctionnel de film

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    Dépôt de pulvérisation de magnétron de champ de film fonctionnel

    ,

    système de pulvérisation de magnétron de film super-dur

    ,

    système de pulvérisation de magnétron de film fonctionnel

  • Lester
    Personnalisable
  • Taille
    Personnalisable
  • Personnalisable
    Disponible
  • Période de garantie
    1 an ou cas par cas
  • Conditions d'expédition
    Par Mer / Air / Transport Multimodal
  • Lieu d'origine
    Chengdu, République populaire de Chine
  • Nom de marque
    ZEIT
  • Certification
    Case by case
  • Numéro de modèle
    MSC-FF-X—X
  • Quantité de commande min
    1 jeu
  • Prix
    Case by case
  • Détails d'emballage
    caisse en bois
  • Délai de livraison
    Cas par cas
  • Conditions de paiement
    T/T
  • Capacité d'approvisionnement
    Cas par cas

Système de dépôt de pulvérisation cathodique de magnétron de film extra-dur dans le domaine fonctionnel de film

Dépôt par pulvérisation cathodique de magnétron dans le champ de film fonctionnel

 

 

Applications

    Applications     But spécifique     type de materiau
    Film fonctionnel     Film super dur     TiN, TiC

    Film opaque

    Cr, AlSi, AlTi, etc.
    Film résistif       NiCrSi, CrSi, MoTa, etc.
   Film supraconducteur       YbaCuO, BiSrCaCuo
      Film magnétique     Fe, Co, Ni, FeMn, FeNi, etc.

 

Principe de fonctionnement

Il existe de nombreux types de pulvérisation magnétron avec différents principes de fonctionnement et objets d'application.Mais là

a une chose en commun : il fait courir les électrons dans des trajectoires en spirale près de la surface cible par interaction entre

champs magnétiques et électriques, augmentant ainsi la probabilité de générer des ions provenant d'électrons frappant l'argon.

Les ions générés frappent alors la surface cible sous l'action du champ électrique et pulvérisent les matériaux cibles.

 

Fonctionnalités

  Modèle   MSC-FF-X—X
  Type de revêtement   Divers films diélectriques tels que film métallique, oxyde métallique et AIN
  Plage de température de revêtement   Température normale à 500℃
  Taille de la chambre à vide de revêtement   700mm*750mm*700mm (personnalisable)
  Vide de fond   < 5×10-septmbar
 Épaisseur du revêtement   ≥ 10nm
 Précision du contrôle d'épaisseur   ≤ ±3%
  Taille maximale du revêtement  ≥ 100mm (personnalisable)
  Uniformité de l'épaisseur du film  ≤ ±0,5 %
  Support de substrat   Avec mécanisme de rotation planétaire
  Matériel cible  4 × 4 pouces (compatible avec 4 pouces et moins)
  Source de courant   Les alimentations telles que DC, impulsion, RF, IF et polarisation sont facultatives
 Gaz de procédé   Ar, N2, O2
  Remarque : production personnalisée disponible.

                                                                                                                

Échantillon de revêtement

Système de dépôt de pulvérisation cathodique de magnétron de film extra-dur dans le domaine fonctionnel de film 0

 

Étapes du processus

→ Placer le substrat à revêtir dans la chambre à vide ;

→ Aspirer grossièrement ;

→ Allumer la pompe moléculaire, aspirerà vitesse maximale, puis allumez la révolution et la rotation ;

→ Chauffer la chambre à vide jusqu'à ce que la température atteignecible;

→ Mettre en œuvre le contrôle de température constante ;

→ Nettoyer les éléments ;

→ Tourner et revenir à l'origine ;

→ Film de revêtement selon les exigences du processus ;

→ Baisser la température et arrêter le groupe pompe après revêtement ;

→ Arrêtez de travailler lorsquel'opération automatique est terminée.

 

Nos avantages

Nous sommes fabricant.

Processus mature.

Réponse dans les 24 heures ouvrables.

 

Notre certification ISO

Système de dépôt de pulvérisation cathodique de magnétron de film extra-dur dans le domaine fonctionnel de film 1

 

 

Certaines parties de nos brevets

Système de dépôt de pulvérisation cathodique de magnétron de film extra-dur dans le domaine fonctionnel de film 2Système de dépôt de pulvérisation cathodique de magnétron de film extra-dur dans le domaine fonctionnel de film 3

 

 

Parties de nos récompenses et qualifications de R&D

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